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光催化及光敏材料測(cè)試設(shè)備
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太陽(yáng)能電池穩(wěn)定性測(cè)試
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光纖太陽(yáng)光模擬器
光譜響應(yīng)/量子效率量測(cè)儀
全光譜太陽(yáng)光模擬器
太陽(yáng)能電池量子效率測(cè)試系統(tǒng)
AAA級(jí)太陽(yáng)光模擬器
雙燈太陽(yáng)光模擬器
穩(wěn)態(tài)太陽(yáng)光模擬器
瞬態(tài)光電流/光電壓測(cè)試系統(tǒng)
太陽(yáng)能電池載流子測(cè)試設(shè)備
載流子擴(kuò)散長(zhǎng)度測(cè)試系統(tǒng)
薄膜性能測(cè)試設(shè)備
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薄膜應(yīng)力測(cè)試儀
薄膜熱應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)
薄膜生長(zhǎng)速率測(cè)試儀
薄膜/涂層殘余應(yīng)力儀
電池電極應(yīng)力測(cè)試系統(tǒng)
薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)
原位薄膜應(yīng)力測(cè)試儀
薄膜應(yīng)力測(cè)試系統(tǒng)
kSA BandiT實(shí)時(shí)襯底溫度測(cè)試儀
kSA 400 RHEED分析系統(tǒng)
反射高能電子衍射儀 RHEED
應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)
共聚焦顯微鏡
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電化學(xué)反應(yīng)共聚焦系統(tǒng)
三維光學(xué)共聚焦顯微鏡
三維表面輪廓儀
激光光束質(zhì)量分析儀
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激光質(zhì)量分析儀
UV光束分析儀
Shack-Hartmann波前傳感器
EUV/XUV波前傳感器
波前曲率傳感器
光熱弱吸收測(cè)量?jī)x
高功率激光材料測(cè)試儀
大光斑激光光束分析儀
高功率激光光束分析儀
激光光束分析儀
納米材料制備設(shè)備
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石墨烯制備系統(tǒng)(CVD)
噴霧熱解成膜系統(tǒng)
碳納米管CVD制備系統(tǒng)
原子層沉積系統(tǒng)
卷對(duì)卷涂布系統(tǒng)
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微納米加工設(shè)備
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桌面型 激光直寫(xiě)系統(tǒng)
臺(tái)式 無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)
納米壓印系統(tǒng)
介電/壓電材料測(cè)試設(shè)備
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電卡效應(yīng)測(cè)試儀
高溫介電測(cè)試系統(tǒng)
熱釋電測(cè)試儀
熱刺激電流測(cè)試儀
精密壓電系數(shù)測(cè)試儀
高分子壓電系數(shù)測(cè)試儀
高場(chǎng)寬頻譜介電測(cè)量系統(tǒng)
低溫寬頻介電測(cè)量系統(tǒng)
電滯回線及高壓介電擊穿強(qiáng)度測(cè)試系統(tǒng)
高壓漏電流及熱釋電測(cè)量系統(tǒng)
電容充放電測(cè)試儀
太陽(yáng)能電池測(cè)試設(shè)備
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瞬態(tài)光電壓測(cè)試
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高純度鈣鈦礦前驅(qū)體材料
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其他相關(guān)設(shè)備
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原子層沉積系統(tǒng)正逐漸成為科研和工業(yè)界關(guān)注的焦點(diǎn)
2024-02-26
AFM:將MR-TADF發(fā)射器引入發(fā)光電化學(xué)cells中以實(shí)現(xiàn)窄帶高效發(fā)射
2024-02-23
為什么選擇雙燈太陽(yáng)光模擬器?
2024-01-30
壓電系數(shù)測(cè)試儀探索壓電現(xiàn)象
2024-01-26
高分子壓電系數(shù)測(cè)試儀揭示了高分子材料的壓電性能
2024-01-23
OLED非極性染料在發(fā)光Guest–Host體系中的取向機(jī)制
2024-01-12
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2023-12-27
太陽(yáng)能電池IV測(cè)試儀的主要功能
2023-12-26
界面工程有機(jī)近紅外光電探測(cè)器在成像方面的應(yīng)用
2023-12-20
OLED光電性能測(cè)量系統(tǒng)的重要性
2023-12-20
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